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科技

中微公司:将发布刻蚀、薄膜、MOCVD 等多款高端设备

作者 bolin
2026年8月24日 1 分钟阅读
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IT之家 8 月 24 日消息,第十四届半导体设备材料及核心部件展(CSEAC 2026)将于 2026 年 8 月 31 日-9 月 2 日在江苏无锡太湖国际博览中心举行,本届大会以“专业化、产业化、国际化”为宗旨,聚焦设备、材料、核心部件全链生态,汇聚前沿技术与产业智慧。

中微公司今日预告,将携多款核心产品及创新解决方案亮相展会。同期,中微公司将举办新品发布会,发布刻蚀、薄膜、MOCVD 等多款高端设备,展示在集成电路微观加工高端设备领域的最新成果与解决方案。

IT之家注:MOCVD 的全称是金属有机化合物化学气相沉积,简单来说,它是一种在半导体材料表面“生长”超薄晶体薄膜的核心工艺技术。

图片

公开资料显示,中微公司总部位于上海,是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,已开发出等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备。

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bolin

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