中国开始量产 DUV 光刻机

The Information 本周一报道，一家总部位于上海的企业已启动浸没式深紫外（DUV）光刻机的小规模批量生产，预计今年内向中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等主要芯片制造商交付首批约5台设备，2027 年产量计划提升至约20台。这款中国产光刻机主打28纳米芯片生产，还可满足 7 纳米级别芯片的制造需求。路透周二报道，该公司名为上海爱晟纳电子科技集团，是一家国营企业，2023 年 8 月在上海成立，注册资本就高达 70 亿元人民币，主要股东为上海电气控股集团及上海国际信托旗下子公司等国有资本。